현재 스퍼터링 타겟 준비가 직면한 주요 기술 문제는 다음과 같습니다. Titanium Aluminum Sputtering Target
1) 스퍼터링 타겟의 활용률을 향상시킵니다.
2) 고밀도, 고밀도 및 균일한 미세조직을 확보하는 조건에서 대면적 스퍼터링 타겟 생산 기술.
3) 스퍼터링 타겟의 밀도를 향상시킵니다.
4) 타겟의 알갱이 크기를 줄인다.
5) 스퍼터링 속도 및 스퍼터링 공정의 안정성을 향상시킵니다. Titanium Sputtering Target